本文摘自太平洋电脑网，原文链接：https://news.pconline.com.cn/1494/14944746.html，侵删。
苹果在iPhone上已经使用了长达5年的刘海屏，虽然目前iPhone 13系列将刘海面积缩小，但是有效显示面积其实并没有增加太多，遮挡的情况依然严重。
一直以来，外界都希望苹果能早日实现屏下Face ID等技术，将刘海完全隐藏到屏幕下方，实现完全无开孔的效果，再配合上iPhone四边等宽的设计，视觉效果应该会非常出色。
从最新消息来看，这个梦想可能不远了。
据报道，近日美国专利商标局在4月5日已正式授予苹果 一项新专利 ， 该专利介绍中显示，其可以将Face ID组件影藏在屏幕下方，屏幕依然可以正常显示，面部识别也能正常工作，两不耽误。
不过需要注意的是，该专利是刚刚获批， 这就意味着iPhone 14已经完全不可能搭载这项技术。
而按照苹果的超长产品规划时间来看，iPhone 15系列的一部分早期工作或许也已经开始，是有一些希望使用该技术的，但是考虑到目前只是专利获批，技术还尚未成型，在iPhone 15的开发周期内大概率无法调试完善。
至于iPhone 14系列，按照目前的多方消息称其已经开始试产，标准版两款机型将继续使用小刘海，Pro版则升级为“感叹号”打孔方案。
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