本文摘自飞象网，原文链接：http://www.cctime.com/html/2023-3-10/1645444.htm，侵删。
荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）回应荷兰政府即将出台的半导体设备出口管制措施。
当地时间3月8日，阿斯麦发表声明称，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。
阿斯麦强调，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效，“基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。”
阿斯麦方面表示，需要重点指出的是，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。
阿斯麦称，尽管尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统，“此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。”
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