这么急？ASML传来新消息，“连夜”交货大陆中企？-木庄网络博客

本文摘自周晓谈科技，侵删。

ASML是光刻机市场的龙头，其所占据八九成的市场份额，尤其是因为只有ASML量产了EUV光刻机，ASML曾经一度引以为傲，对外表示即便公布图纸，别人也做不出来。

但是我们发现，近年来，ASML方面似乎低调了很多，也可以说是务实了很多。例如ASML总裁就曾经表示，中企可以制造出他们所需要的任何产品，这表示ASML开始重视中企的研发能力。

后来在今年年初的时候，ASML总裁再次表示，即使是在最顶级的EUV光刻机上，中企也不是没有研发出来的可能。

紧接着最新的销售数据就出现了，ASML的最大“金主”不再是我国的台企，也不是日韩欧美，而是大陆中企。

大陆销售的份额占比直接增加到了34%，为何突然份额占比几乎翻倍？为何产能有限却能如此大量交付大陆中企呢？

所以以业内人士甚至表示，ASML这似乎是在“连夜”交货大陆中企，怎么这么急呢？

我们注意到，这似乎与大陆光刻机配套供应链的迅速发展有一定的联系。

目前我们国产光刻机，可以查询到的，已经实现量产的为90纳米，采用ARF准分子激光器光源，光源波长为193纳米。

这已经是DUV光刻机的“标准光源”了，所以我们国产DUV光刻机的瓶颈，已经不是光源，而是其他子系统，包括物镜、曝光系统和浸没系统。

巧合的是，这三大系统，我们国内的供应链在今年上半年，都迎来了突破式的进步。

简单来说，就是这三大系统都已经走到了中试阶段，即将正式进入量产。

尤其是浸没系统，要知道DUV型号的高端光刻机，都是ARFi型，也就是浸没式光刻机。

我们突破了浸没系统，就意味着国产高端DUV光刻机已经距离我们不远，那么这意味着什么呢？

这需要我们从制造工艺上说起，大家知道，目前我们大陆厂商可以做到的最先进工艺是14纳米。

而近年来，国内大陆中企的不断扩产，其实也都是14纳米及以上的工艺，其中尤其是28纳米及以上工艺扩产的规模最大。

因此一旦我们在高端DUV光刻机做到了国产化，那么就意味着，ASML的大部分光刻机，我们都可以做到替代了，当然，除非ASML可以出货EUV光刻机。

然而出货EUV光刻机，依然还是一个不确定事件，因此对于ASML来说，尽量多的出货DUV光刻机就显得更重要。

有的朋友或许了解，我们国产的刻蚀机，已经做到了完全国产替代，但是在此之前，刻蚀机对我们也是有供应保留的，直到中微实现了技术突破，现在刻蚀机才算是毫无保留地对我们出货。

因此ASML如此着急地向大陆中企交货，其实已经说明了问题。

不仅如此，据悉为了实现快速交货，一些该有的测试环节被省略了，后来我们就看到，ASML开始在大陆大量招聘数百人。

业内人士猜测，这或许是为了帮助客户解决后续交付问题，否则难以解释为何ASML突然大量在国内招人。

总之我们看到，只有掌握了核心科技，才会更有竞争力，对此大家怎么看呢？欢迎评论区评论、点赞和转发。