比光刻机断供更严重？ASML的决定，中国院士说得很对啊-木庄网络博客

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比光刻机断供更严重？ASML的决定，中国院士说得很对啊

芯片在工业界被誉为“粮食”，现在已经成为了衡量一个国家整体实力的指标，从飞机、轮船到智能手机、手环等等，任何智能产品都需要它来支撑，尤其是作为世界上最大的半导体市场，它的重要性可想而知。

但美国政府为了阻止中国的高技术发展，最近几年不断的改变政策，不但限制华为等国内企业的芯片供应，更是通过《瓦森纳协定》，阻止 ASML将 EUV光刻机销往内地。

EUV是高端芯片的重要组成部分，目前世界上唯一能生产 EUV的，就是荷兰 ASML。

“一代设备、一代芯片”已经成为了整个半导体产业的共识，如果没有 EUV光刻机，华国的芯片厂商就是“无米之炊”，根本不可能在5 nm工艺上取得突破。所以，要摆脱“卡脖子”的美芯，我们就得把光刻机的国产化。

让人欣慰的是，这两年来，国内一直不被人看好的光刻机，终于迎来了一个突破的好消息。

在高端光刻机领域，中科院、清北高校等研究单位相继突破了光源、物镜等核心技术；而在中低档光刻机领域，国内光刻企业如上海微电子、东方晶圆微电子等，也相继完成了大量的数码光刻机、先进封装光刻机等产品，并将其交给了下游的生产厂家。

然而，就在这个节骨眼上， ASML公司却做出了一个重要的决定，那就是， ASML将会扩大中国企业的研发队伍，招募200多个专门的专业人员，除了 EUV光刻机之外，还会增加光刻技术的销售。

从目前的情况来看， ASML决定扩大研发规模，增加销量，对国内的芯片技术和产能都有一定的促进作用。但从国产光刻技术的自主发展来看， ASML的这一举动，恐怕要比光刻机断供还要糟糕。

首先，国外的垄断，迫使我们在光刻领域的自主发展， EUV光刻机的缺失，让我们的高端工艺无法更进一步，但这只是暂时的。

在中、低端光刻机方面，我们已经基本做到了自给自足，目前国内需求的良性循环，也在加快，随着基础的不断夯实，再加上高端光刻技术的突破， EUV设备的国产化也就顺理成章了。

但现在， ASML不能向中企出口 EUV，反而开始低价倾销中低档产品，这无疑会让国内的光刻机陷入困境。如果没有足够的市场支撑，国内光刻企业的研发经费就无法得到保证，长期下去，秩序的市场系统势必会出现一片混乱，更别说进入高端领域了。

其次，就像王传福说的：“再先进的设备也是人工制造的，不是上帝制造的。”光刻技术“卡脖子”的原因，就在于人才的缺乏。但从目前的数据来看，目前国内集成电路行业的人才缺口已经达到了二十万，光刻技术人才更是紧缺。

所以，在光刻领域，专业的人才在这个时候就变得非常重要。尤其是那些顶尖的光刻机工程师，他们不但可以解决技术难题，还可以申请专利，让光刻技术在华夏的市场上积累更多的技术，让他们不敢轻易切断我们的供货。

相反，如果外资企业发掘了这些人才，他们很有可能会在我们的专利上设置一个障碍，使我们不能脱离对他们的依赖。这也是 ASML扩大研发规模、招募200多个专门人才的重要原因。

这十多年来， ASML在国内申请了两千多个光刻领域的专利，但这两年来， ASML已经提交了3000多个专利。更重要的是，该公司于去年十二月被邀请到美，负责开发 EUV的新产品。

这一切都是巧合吗？要是 ASML在国内申请的这些专利，被老美公司利用了，就算我们能通过 EUV技术，但没有相关的专利，也不能正常使用。

中国的倪光南院士说的没错，关键技术是不能买、不能换、不能买的，要想从“卡脖子”中走出来，就必须舍弃自己的梦想，用自己的行动来取代国产。

西方公司在过去已经屡次被证实是不可靠的，而盾构的经验让我们记忆犹新。

所以，我们不能盲目乐观地看待 ASML在国内的投资布局，而是要未雨绸缪。他们可以从他们身上提取技术，为自己所用，但不能因为“造不如买，买不如租”而放缓自己的研发速度。

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